国望光学光刻机曝光系统生产基地项目获新阶段
发布时间：2022-03-09 08:51:20 所属栏目：动态 来源：互联网
导读：北京市公共资源交易服务平台日前发布《投影光刻机曝光光学系统研发及批量生产基地项目洁净工程中标候选人公示》，四联智能技术股份有限公司等三家企业位列中标候选人。 国望光学研发生产基地位于北京经济技术开发区，规划建筑面积 12 万平方米，预计 2023
|
北京市公共资源交易服务平台日前发布《投影光刻机曝光光学系统研发及批量生产基地项目洁净工程中标候选人公示》，四联智能技术股份有限公司等三家企业位列中标候选人。 国望光学研发生产基地位于北京经济技术开发区，规划建筑面积 12 万平方米，预计 2023 年投入运行后，将拥有 350/280nm 节点、90/110nm 节点、28nm 及以下节点极大规模 IC 制造投影光刻机曝光光学系统产品的研发、设计与批量生产供货能力。 公开资料显示，该生产基地建设单位为北京国望光学科技有限公司，经营研发核心团队成员来自国内唯一一家超精密光学系统产业化技术研发单位 —— 长春国科精密。国望光学基本定位是建立我国自主的超精密光学产业技术研发与生产体系，形成极大规模 IC 制造投影光刻机曝光光学系统、高端精密光学仪器与装备的批量生产供货能力，从根本上解决我国 IC 制造投影光刻机曝光光学系统及高端精密光学装备的产业化问题。 （编辑：应用网_丽江站长网） 【声明】本站内容均来自网络，其相关言论仅代表作者个人观点，不代表本站立场。若无意侵犯到您的权利，请及时与联系站长删除相关内容! |
浙公网安备 33038102330468号